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顯微測量儀
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NS200國產臺階儀能夠測量幾個納米到330μm的臺階高度。這使其可以準確測量在蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料;可以測量表面的2D形狀或翹曲。也能夠測量在生產中包含多個工藝層的半導體或化合物半導體器件所產生的應力。
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